光显印科技采用混合印刷压印工艺，结合六角蜂窝状结构和自掩膜曝光技术，打造高性能金属网格透明导电膜。

我们的金属网格透明导电膜在多项关键参数上达到行业领先水平，为客户提供卓越的性能表现

方阻

透光率

≤0.05Ω/□

85%+

线宽

3μm

屏蔽效能

40-50dB

雾度

<1.8%

超低电阻，满足大尺寸触控需求

远高于传统ITO导电膜的透光率

超精细线宽，肉眼几乎不可见

EMI超过50dB,突破行业纪录

低雾度，高清晰度视觉效果

我们的透明导电膜技术具有多个核心创新特点，为客户提供全方位的性能优势

我们采用混合印刷压印工艺，结合多项创新技术，打造高品质金属网格透明导电膜。

我们的技术不仅性能优异，还具有显著的成本优势，为客户创造更大的价值。

我们的金属网格透明导电膜在多项性能指标上超越传统材料，为客户提供卓越的使用体验

金属网格透明导电膜通过优化结构设计，成功解决了传统材料中高透光率和高导电性难以兼得的矛盾，同时实现了优异的可拉伸性和高综合性能。

透光率高达90%以上，方阻低至0.1Ω/□以下，同时保持优异的柔韧性和稳定性，满足各种高端应用场景的需求。

凭借强大的工艺兼容性，构建了多元应用生态。其核心平台可适配PET、PI、玻璃、布基等各类基底，通过参数调整，快速衍生出透明电磁屏蔽膜、电极、加热膜、天线及柔性传感器等全系列产品。

现有产线经小幅升级即可支持多产品试制，大幅降低新增投入，实现高效、灵活的技术转化与产业化。